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SMALDIPrep全自動(dòng)基質(zhì)噴霧儀，適用于高分辨率組織質(zhì)譜成像:
1. 全自動(dòng)基質(zhì)噴霧儀，允許在組織上制備MALDI基質(zhì)層，用于高分辨率MALDI成像；2. 雙噴涂模式，用戶可根據(jù)樣品噴涂需求靈活選擇：3. 旋轉(zhuǎn)氣助噴霧模式，噴涂過程中樣品拖高速旋轉(zhuǎn)，試劑用量少，基質(zhì)結(jié)晶顆粒細(xì)小且均勻度高；4. 線形噴霧模式下可對(duì)大樣本靶板進(jìn)行大區(qū)域基質(zhì)噴涂，根據(jù)樣本情況可任意定義噴霧區(qū)域（ROI）。5. 噴嘴處產(chǎn)生極小霧滴，以DHB基質(zhì)為參考，基質(zhì)結(jié)晶顆粒大小平均≤10μm，滿足單細(xì)胞成像需求；6. 噴霧控制精細(xì)，最大程度的實(shí)現(xiàn)分析物和基質(zhì)的高效結(jié)晶，滿足多種低豐度化合物的檢測(cè)；7. 基質(zhì)噴涂速度0.01-250μl/min可調(diào)，噴嘴高度0-100 mm可調(diào)；8. 注射器進(jìn)樣，精準(zhǔn)控制液體流速及噴霧量；9. 噴嘴移動(dòng)速度根據(jù)樣本噴涂需求任意可調(diào)10. 基質(zhì)選擇范圍廣，各種有機(jī)小分子基質(zhì)如DHB，CHCA，SA，9-AA和無機(jī)納米基質(zhì)；11. 噴涂方法、參數(shù)可調(diào)，重復(fù)性高；12. 儀器易操作，兩段式清洗方式，減少試劑殘留，易維護(hù)。